Растровый электронный микроскоп ZEISS EVO-50
Оборудован аппаратным комплексом управления электронным пучком Nanomaker.
Технические характеристики
| Ускоряющее напряжение, кВ | 0,2 – 30 |
| Максимальное разрешение, нм | 3 |
| Детекторы | вторичных электронов, обратно отраженных электронов |
| Максимальный размер образца, мм | 200x200x100 |
| Режимы | высокий вакуум, низкий вакуум |
| Диапазон давлений для сверхнизкого вакуума, Па | 1 – 750 |
Электронно-лучевая литография является ключевым инструментом при создании
целого ряда экспериментальных образцов для прикладных и экспериментальных исследований,
а также может быть использована для прототипирования, предсерийного и малосерийного
производства конечных изделий.
Структуры, созданные для изучения электрофизических свойств нанокристаллов
Наноструктуры созданные методами электронно-лучевой литографии для исследования сверхпроводимости.
Структуры, созданные для изучения электрофизических свойств нанокристаллов
Наноструктуры созданные методами электронно-лучевой литографии для исследования сверхпроводимости.